TFX4000OCD——光學關鍵尺寸量測
光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺,搭載自主研光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺,搭載自主研發算法功能,可應用于顯影后檢查(ADI)、刻蝕后檢查(AEI)等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度(SWA)、高度(Height)/深度等關鍵尺寸(CD)特征或整體形貌測量。
TFX4000E——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 輸出產能高,具有較高的性價比
l 可量測范圍更寬廣,超厚膜和超薄膜量測能力更穩定
l 全新橢圓偏振光路設計
l 機械運動性能可靠,穩定性表現卓越
TFX4000i——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 輸出產能高,具有較高的性價比
l 可量測范圍更寬廣,超薄膜量測能力更穩定
l 機械運動性能可靠,穩定性表現卓越
l 功能豐富、易用的軟件和算法
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TFX3000P——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 低持有成本(COO),輸出產能高,具有極高的性價比
l 機械運動性能可靠,穩定性表現卓越
l 功能豐富、易用的軟件和算法
l 全面支持工廠自動化要求