TFX4000OCD——光學關鍵尺寸量測
光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺，搭載自主研光學關鍵尺寸量測產品基于光學膜厚量測平臺，搭載自主研發算法功能，可應用于顯影后檢查（ADI）、刻蝕后檢查（AEI）等多種工藝段的二維或三維樣品的線寬、側壁角度（SWA）、高度（Height）/深度等關鍵尺寸（CD）特征或整體形貌測量。
TFX4000E——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 輸出產能高，具有較高的性價比
l 可量測范圍更寬廣，超厚膜和超薄膜量測能力更穩定
l 全新橢圓偏振光路設計
l 機械運動性能可靠，穩定性表現卓越
TFX4000i——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 輸出產能高，具有較高的性價比
l 可量測范圍更寬廣，超薄膜量測能力更穩定
l 機械運動性能可靠，穩定性表現卓越
l 功能豐富、易用的軟件和算法
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TFX3000P——薄膜厚度測量設備
l 可量測多種材料薄膜
l 提供薄膜可靠和精確的厚度、折射率、成分比率和應力測量
l 低持有成本（COO），輸出產能高，具有極高的性價比
l 機械運動性能可靠，穩定性表現卓越
l 功能豐富、易用的軟件和算法
l 全面支持工廠自動化要求
滬公網安備 31011502016946號